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Título : Resistencia a la fuerza de unión de dos sistemas adhesivos (autograbado y grabado total) previa aplicación de clorhexidina al 1% y al 2%
Autor : Moreno Puente, María Monserrath
Melgar Gómez, Nathaly Johanna
Palabras clave : SISTEMA ADHESIVO
CLORHEXIDINA
DENTINA
RESISTENCIA AL CIZALLAMIENTO
Fecha de publicación : 2020
Editorial : Quito: UCE
Citación : Melgar Gómez, N. (2020). Resistencia a la fuerza de unión de dos sistemas adhesivos (autograbado y grabado total) previa aplicación de clorhexidina al 1% y al 2%. Trabajo de titulación previo a la obtención del Título de Odontólogo. Carrera de Odontología. Quito: UCE. 99 p.
Resumen : Objetivo: Comparar el efecto de dos concentraciones de clorhexidina (1% - 2%) sobre la resistencia a la unión de dos sistemas adhesivos de autograbado y grabado total.Materiales y Métodos: Se utilizaron 60 piezas dentales, las cuales fueron sometidas a un corte transversal a 3 mm por encima de la línea amelocementaria. Los especímenes fueron divididos aleatoriamente en 6 grupos de 10 cada uno. GRUPO 1: adhesivo autograbado, GRUPO 2: adhesivo grabado total, GRUPO 3: Sistema adhesivo de autograbado y clorhexidina al 1% GRUPO 4: Sistema adhesivo de grabado total y clorhexidina al 1% GRUPO 5: Sistema adhesivo de autograbado y clorhexidina al 2% GRUPO 6: Sistema adhesivo de grabado total y clorhexidina al 2%, procediéndose a la colocación de resina de nanorelleno.Las muestras fueron sometidas a carga a cizallamiento teniendo en cuenta la carga máxima registrada y el área de incidencia del corte, la misma que fue medida y calculada con una media aproximada de 6.9mm x 9.6mm, ya que cada uno posee una morfología diferente dando valores expresados en megapascales [MPa]. Resultados: Los datos analizados mediante prueba ANOVA dan a conocer que existe una diferencia significativa entre las medias de esfuerzo de corte entre los seis grupos. Conclusiones: La media del valor de la carga a cizallamiento fue la siguiente GRUPO 1:(2,20MPa) GRUPO 2:(3,20MPa) GRUPO 3: (4,58MPa) GRUPO 4:(3,00MPa) GRUPO 5:(4,64MPa) GRUPO6:( 3,17MPa). Por lo tanto se presentó una mayor resistencia a la fuerza de unión en los grupos tratados con adhesivo de autograbado y clorhexidina al 1 % y 2% , siendo estos el grupo 3 y 5 respectivamente.
Purpose: Compare the effect of two concentrations of chlorhexidina (1%-2%) on the bond resistance of self- etching and total etching adhesive systems. Materials and methods: 60 dental pieces were used, which were cut transversally at 3mm above the amelocementary line.The specimens were divided randomly into 6 groups of 10 pieces each. Group 1: self-etching adhesive; Group 2: total etching adhesive; Group 3: self- etching adhesive and chlorhexidine 1%; Group 4: total etching adhesive and chlorhexidine 1%; Group 5: self- etching adhesive and chlorhexidine 2%; Group 6: total etching adhesive and chlorhexidine 2%; proceeding to apply a nanofill resin. The samples were subject to shear loading keeping in mind the máximum registered load and the area of the cut, which had been measured and calculet with an approximate average of 6,9 mm x 9,6mm, since each had a different morphology with values expressed in megapascals (MPa). Results: The data analyzed using an ANOVA test reveals that there is a significant difference in the averages of shear loading among the study groups. Conclusions: The average shear loading value was the followind: Group 1: (2.20 MPa); Group 2: (3.20 MPa); Group 3: (4.58 MPa); Group 4: (3.00 MPa); Group 5: (4.64 MPa); Group 6: (3.17 MPa). Therefore, there was greater resistance to bond strength in the groups treatednwith self- etching adhesive and chlorhexidine ar 1% and 2%, these being Groups 3 and 5 respectively.
URI : http://www.dspace.uce.edu.ec/handle/25000/21107
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